结构式
| 物竞编号 | 16JS |
|---|---|
| 分子式 | Cl2SiH2 |
| 分子量 | 101.01 |
| 标签 | 电子特种气体原料及中间体 |
编号系统
CAS号：4109-96-0
MDL号：MFCD00011600
EINECS号：223-888-3
RTECS号：VV3050000
BRN号：暂无
PubChem号：24860129
物性数据
1.性状：无色气体，有特征气味。[1]
2.熔点（℃）：-122[2]
3.沸点（℃）：8.3[3]
4.相对密度（水=1）：1.26[4]
5.相对蒸气密度（空气=1）：3.48[5]
6.饱和蒸气压（kPa）：163.6（20℃）[6]
7.临界压力（Mpa）：4.55[7]
8.辛醇/水分配系数：1.150[8]
9.闪点（℃）：-55[9]
10.引燃温度（℃）：41~47[10]
11.爆炸上限（%）：96.0[11]
12.爆炸下限（%）：4.1[12]
13.溶解性：溶于苯、乙醚等多数有机溶剂。[13]
毒理学数据
1.急性毒性 暂无资料
2.刺激性[14] 家兔经眼：5mg（30s），轻度刺激。
3.其他[15]
大鼠吸入氯化氢LC50：3124ppm（60min），4701ppm（30min）。
人吸入氯化氢LCLo：1300ppm（30min），3000ppm（5min）。
生态学数据
1.生态毒性 暂无资料
2.生物降解性 暂无资料
3.非生物降解性 暂无资料
分子结构数据
1、摩尔折射率：无可用的
2、摩尔体积（cm3/mol）：无可用的
3、等张比容（90.2K）：无可用的
4、表面张力（dyne/cm）：无可用的
5、介电常数：无可用的
6、极化率：无可用的
7、单一同位素质量：99.930281 Da
8、标称质量：100 Da
9、平均质量：101.0074 Da
计算化学数据
1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:0
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积0
7.重原子数量:3
8.表面电荷:0
9.复杂度:2.8
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:1
性质与稳定性
1.稳定性[16] 稳定
2.禁配物[17] 强碱、水、醇类、强酸、强氧化剂、卤素
3.避免接触的条件[18] 潮湿空气
4.聚合危害[19] 不聚合
贮存方法
储存注意事项[20] 储存于阴凉、通风的有毒气体专用库房。库温不宜超过30℃。远离火种、热源。包装必须密封，切勿受潮。应与氧化剂、碱类、醇类、食用化学品分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄露应急处理设备。
合成方法
1.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应，生成二氯二氢硅，经蒸馏分离三氯氢硅，把得到的二氯二氢硅进行精制，制得电子级高纯二氯二氢硅成品。
2.将27.1g SiHCl3与3.7g Bu3N在常压下回流40h，即得到产品。产物用置于干冰浴上的接收器收集。产率可达到7.3%。
3.将硅粉和氯化氢按适当比例进行反应，生成二氯二氢硅，经蒸馏分离三氯氢硅，将得到的二氯二氢硅进行精制，制得电子级高纯二氯二氢硅成品。其反应式如下：
用途
1.用于制造半导体，尤其是在外延法工艺中作为硅源。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相沉积二氧化硅和氮化硅。它的硅含量比三氯氢硅和四氯化硅高，二氯二氢硅沉积硅更有效，且淀积温度比其他氯硅烷低。采用二氯二氢硅在降低温度下沉积厚层所需时间大大低于采用硅烷所需时间。由于二氯二氢硅的沉积速率与采用其他氯硅烷相比对温度敏感性小，因此可以采用调节氢气流中二氯二氢硅浓度的方法来控制沉积速率，而且不会出现鼓泡所带来的不准确性和机械问题。
2.用于甲硅烷基化剂，及合成硅的有机化合物。[21]
安全信息
危险运输编码：UN 2189 2.3
危险品标志：
极易燃 
有毒
安全标识：S26 S45 S36/S37/S39
文献
[1~21]参考书：危险化学品安全技术全书.第一卷/张海峰主编.—2版.北京；化学工业出版社，2007.6 ISBN 978-7-122-00165-8
备注
暂无
表征图谱
暂无图谱
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