结构式
| 物竞编号 | 0LA3 |
|---|---|
| 分子式 | TaSi2 |
| 分子量 | 237.12 |
| 标签 | 硅化钽, Tantalum silicide, 精细陶瓷 |
编号系统
CAS号：12039-79-1
MDL号：MFCD00049564
EINECS号：234-902-2
RTECS号：暂无
BRN号：暂无
PubChem号：暂无
物性数据
1. 性状：为暗灰色立方结晶粉末
2. 密度（g/mL,25℃）：9.14
3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定
4. 熔点（ºC）：2200
5. 沸点（ºC,常压）：未确定
6. 沸点（ºC，1mmHg）：未确定
7. 折射率：未确定
8. 闪点（ºC）：未确定
9. 比旋光度（º）：未确定
10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定
11. 蒸气压（20ºC）：未确定
12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定
13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定
14. 临界温度（ºC）：未确定
15. 临界压力（KPa）：未确定
16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定
17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定
18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定
19. 溶解性：未确定
20.晶格常数：a=0.4778nm，c=0.6558nm
21.显微硬度（kg·mm-2）：1407
22.弹性模量（kg·K-1）：30230
23.导电率（Ω·cm-1）：1.23×10-5
24.比热容（J/(g·℃)）：0.33
毒理学数据
暂无
生态学数据
暂无
分子结构数据
暂无
计算化学数据
1、 氢键供体数量：0
2、 氢键受体数量：0
3、 可旋转化学键数量：0
4、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：0
5、 重原子数量：3
6、 表面电荷：0
7、 复杂度：18.3
8、 同位素原子数量：0
9、 确定原子立构中心数量： 0
10、 不确定原子立构中心数量：0
11、 确定化学键立构中心数量：0
12、 不确定化学键立构中心数量：0
13、 共价键单元数量：1
性质与稳定性
暂无
贮存方法
暂无
合成方法
1.以金属钽和硅粉为原料，将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至800℃进行反应，即得硅化钽。或者用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。
2.将Si和Ta混合物先预热至350℃，然后升温至1480℃，加热反应。或令TaS2与SiHnX4-n在900℃下反应制得。
3.直接法 以金属钽和硅粉为原料制备硅化钽，反应式如下。
首先将金属钽和硅粉进行粉碎并混合均匀，再将其放入石墨炉内加热至
1100～1500℃进行预反应，然后通入氢气，再升温至1800.℃进行均化反应1h，即得硅化钽。
4.五氧化二钽还原法 首先用氢化钙还原五氧化二钽得到氢化钽，再加热至1800℃得金属钽，然后加入硅粉合成得硅化钽。
用途
用作精细陶瓷原料粉。
用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。
安全信息
危险运输编码：暂无
危险品标志：暂无
安全标识：暂无
危险标识：暂无
文献
暂无
备注
暂无
表征图谱
暂无图谱
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