物竞编号 | 0KW4 |
---|---|
分子式 | BCl3 |
分子量 | 117.17 |
标签 | 氯化硼, 三氯化硼溶液, 三氯化硼溶于二氯乙烷, 三氯化硼正己烷溶液, 三氟化硼(二氯甲烷溶液), 氧化剂, 电子高纯单质原料及中间体 |
CAS号:10294-34-5
MDL号:MFCD00011313
EINECS号:233-658-4
RTECS号:ED1925000
BRN号:暂无
PubChem号:24857752
1.性状:无色发烟液体或气体,有强烈臭味,易潮解。[1]
2.熔点(℃):-107[2]
3.沸点(℃):12.5[3]
4.相对密度(水=1):1.35[4]
5.相对蒸气密度(空气=1):4.03[5]
6.饱和蒸气压(kPa):150(20℃)[6]
7.临界温度(℃):178[7]
8.临界压力(MPa):3.9[8]
9.辛醇/水分配系数:1.16[9]
10.溶解性:用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼化合物的制取。[10]
1 、
试验方法:吸入
摄入剂量: 2541 ppm/1H
测试对象:啮齿动物-鼠
毒性类型:急性
毒性作用: 详细的毒副作用没有报告以外的其他致死剂量值
2 、
试验方法:吸入
摄入剂量: 20 ppm/7H
测试对象:啮齿动物-鼠
毒性类型:急性
毒性作用: 1.肺,胸部或呼吸-其他变化
2.皮肤和附件-皮炎,其他(后全身暴露)
3.营养和总代谢-体重减轻或减少体重增加
3 、
试验方法:吸入
摄入剂量: 1650 mg/m3
测试对象:哺乳动物-物种不详
毒性类型:急性
毒性作用: 详细的毒副作用没有报告以外的其他致死剂量值
4 、
试验方法:吸入
摄入剂量: 660 mg/m3/3W-I
测试对象:啮齿动物-鼠
毒性类型: MutipleDose
毒性作用: 有关慢性数据-死亡
大鼠吸入1h LC50:1271mg/m3。三氯化硼是一种腐蚀性液体,接触时能刺激眼睛、皮肤和呼吸系统,液体能灼伤眼睛和皮肤。操作人员必须穿戴特殊的全身防护服,若皮肤、眼睛等不慎接触,立刻用水冲洗,如有灼伤送医院救治。
5.急性毒性[11] LC50:12171mg/m3(大鼠吸入,1h)
该物质对环境可能有危害,对水体应给予特别注意。
1、摩尔折射率:20.02
2、摩尔体积(cm3/mol):84.6
3、等张比容(90.2K):184.4
4、表面张力(dyne/cm):22.5
5、介电常数:无可用的
6、极化率(10-24cm3):7.93
7、单一同位素质量:115.915864 Da
8、标称质量:116 Da
9、平均质量:117.17 Da
1.疏水参数计算参考值(XlogP):无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:0
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积0
7.重原子数量:4
8.表面电荷:0
9.复杂度:8
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:1
1.遇水分解生成氯化氢和硼酸,并放出大量热量。在湿空气中因水解而生成烟雾。三氯化硼反应能力较强,能形成多种配位化合物,具有较高的热力学稳定性,但在放电作用下,会分解形成低价的氯化硼。在大气中,三氯化硼加热能和玻璃、陶瓷起反应,也能和许多有机物反应形成各种有机硼化合物。
2.稳定性[12] 稳定
3.禁配物[13] 水、碱、醇类、碱金属、强氧化剂
4.避免接触的条件[14] 潮湿空气
5.聚合危害[15] 不聚合
储存注意事项[16] 储存于阴凉、通风的不燃气体专用库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。保持容器密封。应与氧化剂、碱类、醇类、碱金属等分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。
1.氟硼酸钾、硼酐、硫酸法 将氟硼酸钾和硼酐一起研磨均匀,按一定的配料比加入反应器中,再加入浓硫酸,不断搅拌,使固体和液体混合均匀,逐渐加热,到一定程度便有氟化硼产生。在温度达到40 ℃左右时,反应物开始沸腾,当温度达到93~130 ℃时,产生的气体最多。生成的氟化硼气体净化后进入收集器中。其反应式如下:
将干燥的元素硼粉放入管式反应炉的反应管里,先用惰性气体排除空气,然后加热300℃,通入少量氯气,在温度达到650℃时,大量通入氯气,在温度控制在650-750℃。生成的三氯化硼由接收器用于冰冷却收集,再经精馏,制得三氯化硼成品。其反应式如下:
将精制三氯化硼为原料,通过吸附和蒸馏的方法进行提纯,制得高纯度三氯化硼。
1.主要用作有机反应催化剂,如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。还用于电子工业等。
2.主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺。还用于高纯硼、氮化硼、碳化硼等陶瓷材料及有机硼化物的制备,也用于金属的精炼提纯以及光导纤维、耐热涂料的制造。
3.用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼化合物的制取。[17]
危险运输编码:UN 1741 2.3
危险品标志:极毒
安全标识:S9 S26 S28 S45 S36/S37/S39
[1~17]参考书:危险化学品安全技术全书.第一卷/张海峰主编.—2版.北京;化学工业出版社,2007.6 ISBN 978-7-122-00165-8
暂无